新設備：玻璃曝光設備： 制造商：日本制造商
概要：高精細露光に*適化た獨自UV光學系とフォトマスクとウエハを高精度に平行出しできるメカニズムを採用、バキュームコンタクト，ソフトコンタクト，プロキシミティーまで対応したた全自動露光裝置 特注対応可能、※G5以上の大サイズマスクには縦型をご提案、※G4.5以下のマスクには水平型をご提案
用途：CF TP FPD全般
仕様：、対応基板サイズ：G4.5-G8.5、基板 Size：G4.5-G8.5、アラメント精度：±1μm
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